Mono- and multilayer formation by diazonium reduction on carbon surfaces monitored with atomic force microscopy scratching /

שמור ב:

מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי:	Anariba, Franklin.
מחברים אחרים:	DuVall, Stacy H., McCreery, Richard L.
פורמט:	Bài viết
שפה:	English
נושאים:	Atomic force microscopy Diazonium compounds Monolayer Multilayer Photoresist
תגים:	הוספת תג אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!

Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

תיאור
תיאור לא זמין.

פריטים דומים