Mono- and multilayer formation by diazonium reduction on carbon surfaces monitored with atomic force microscopy scratching /

Đã lưu trong:
Sonraí Bibleagrafaíochta
Príomhúdar: Anariba, Franklin.
Údair Eile: DuVall, Stacy H., McCreery, Richard L.
Formáid: Bài viết
Teanga:English
Ábhair:
Clibeanna: Cuir Clib Leis
Gan Chlibeanna, Bí ar an gcéad duine leis an taifead seo a chlibeáil!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
LEADER 01002nam a2200313 4500
001 DLU090097217
005 ##20091201
040 # # |a DLU  |b eng 
041 # # |a eng 
044 # # |a us 
100 # # |a Anariba, Franklin.  
245 # # |a Mono- and multilayer formation by diazonium reduction on carbon surfaces monitored with atomic force microscopy scratching /  |c Franklin Anariba, Stacy H. DuVall, Richard L. McCreery. 
653 # # |a Atomic force microscopy 
653 # # |a Diazonium compounds 
653 # # |a Monolayer 
653 # # |a Multilayer 
653 # # |a Photoresist 
700 # # |a DuVall, Stacy H. 
700 # # |a McCreery, Richard L. 
773 # # |t Analytical Chemistry  |g Vol. 75, no. 15 (August 2003), p. 3837-3844 
920 # # |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt 
994 # # |a DLU 
900 # # |a True 
911 # # |a Trương Bảo Trâm Anh 
925 # # |a G 
926 # # |a A 
927 # # |a BB 
980 # # |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt