Mono- and multilayer formation by diazonium reduction on carbon surfaces monitored with atomic force microscopy scratching /

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Anariba, Franklin.
Weitere Verfasser:	DuVall, Stacy H., McCreery, Richard L.
Format:	Artikel
Sprache:	English
Schlagworte:	Atomic force microscopy Diazonium compounds Monolayer Multilayer Photoresist
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Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

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