Mono- and multilayer formation by diazonium reduction on carbon surfaces monitored with atomic force microscopy scratching /

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Dettagli Bibliografici
Autore principale:	Anariba, Franklin.
Altri autori:	DuVall, Stacy H., McCreery, Richard L.
Natura:	Articolo
Lingua:	English
Soggetti:	Atomic force microscopy Diazonium compounds Monolayer Multilayer Photoresist
Tags:	Aggiungi Tag Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne! !

Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

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