Mật độ trạng thái bề mặt (Dit) tại phân biên Si/HfO2 trước và sau khi thụ động hóa trong môi trường khí Hydro /
Đã lưu trong:
| Tác giả chính: | |
|---|---|
| Tác giả khác: | |
| Định dạng: | Bài viết |
| Ngôn ngữ: | Vietnamese |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
| LEADER | 00842nam a2200241 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | DLU120143122 | ||
| 005 | ##20121029 | ||
| 040 | # | # | |a DLU |b vie |
| 041 | # | # | |a vie |
| 044 | # | # | |a vn |
| 100 | # | # | |a L. Truong. |
| 245 | # | # | |a Mật độ trạng thái bề mặt (Dit) tại phân biên Si/HfO2 trước và sau khi thụ động hóa trong môi trường khí Hydro / |c L. Truong, A.Stesmans. |
| 700 | # | # | |a A.Stesmans. |
| 773 | # | # | |t Tuyển tập báo cáo hội nghị Vật lý toàn quốc lần thứ VI: Vật lý chất rắn Tập 3, |g 2006, tr. 1321-1324 |
| 920 | # | # | |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
| 994 | # | # | |a DLU |
| 900 | # | # | |a True |
| 911 | # | # | |a Nguyễn Thị Mai Anh |
| 925 | # | # | |a G |
| 926 | # | # | |a A |
| 927 | # | # | |a BB |
| 980 | # | # | |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |