Mật độ trạng thái bề mặt (Dit) tại phân biên Si/HfO2 trước và sau khi thụ động hóa trong môi trường khí Hydro /

Đã lưu trong:
Bibliografiske detaljer
Hovedforfatter: L. Truong.
Andre forfattere: A.Stesmans.
Format: Bài viết
Sprog:Vietnamese
Tags: Tilføj Tag
Ingen Tags, Vær først til at tagge denne postø!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt