Mật độ trạng thái bề mặt (Dit) tại phân biên Si/HfO2 trước và sau khi thụ động hóa trong môi trường khí Hydro /
Tallennettuna:
| Päätekijä: | |
|---|---|
| Muut tekijät: | |
| Aineistotyyppi: | Artikkeli |
| Kieli: | Vietnamese |
| Tagit: |
Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|