Giới hạn của bề dày thân và chiều dài chồng phủ cổng-nguồn trong transistor trường xuyên hầm đường

Cấu trúc xuyên hầm đường (line-tunneling) đã được áp dụng hiệu quả để tăng dòng điện dẫn cho các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm [tunnel field-effect transistor (TFET)]. Dựa trên mô phỏng hai chiều, nghiên cứu này chỉ ra rằng có những giới hạn của các tham số kích thước linh kiện cơ bản, gồm bề...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Nguyễn, Đăng Chiến, Nguyễn Thị Hồng Hạnh, Dương Thị Thanh Hiên, Chun-Hsing Shih
التنسيق: Conference paper
اللغة:Vietnamese
منشور في: Nhà xuất bản Bách Khoa Hà Nội 2024
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3317
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt