Giới hạn của bề dày thân và chiều dài chồng phủ cổng-nguồn trong transistor trường xuyên hầm đường

Cấu trúc xuyên hầm đường (line-tunneling) đã được áp dụng hiệu quả để tăng dòng điện dẫn cho các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm [tunnel field-effect transistor (TFET)]. Dựa trên mô phỏng hai chiều, nghiên cứu này chỉ ra rằng có những giới hạn của các tham số kích thước linh kiện cơ bản, gồm bề...

Descripció completa

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autors principals: Nguyễn, Đăng Chiến, Nguyễn Thị Hồng Hạnh, Dương Thị Thanh Hiên, Chun-Hsing Shih
Format: Conference paper
Idioma:Vietnamese
Publicat: Nhà xuất bản Bách Khoa Hà Nội 2024
Matèries:
Accés en línia:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3317
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt