Giới hạn của bề dày thân và chiều dài chồng phủ cổng-nguồn trong transistor trường xuyên hầm đường

Cấu trúc xuyên hầm đường (line-tunneling) đã được áp dụng hiệu quả để tăng dòng điện dẫn cho các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm [tunnel field-effect transistor (TFET)]. Dựa trên mô phỏng hai chiều, nghiên cứu này chỉ ra rằng có những giới hạn của các tham số kích thước linh kiện cơ bản, gồm bề...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Nguyễn, Đăng Chiến, Nguyễn Thị Hồng Hạnh, Dương Thị Thanh Hiên, Chun-Hsing Shih
Format: Conference paper
Language:Vietnamese
Published: Nhà xuất bản Bách Khoa Hà Nội 2024
Subjects:
Online Access:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3317
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Institutions: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt