Handbook of Plasma Processing Technology - Fundamentals, Etching, Deposition, and Surface Interactions
This book provides a perspective look at a range of thin film plasma processing technologies.
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Rossnagel, Stephen M., Cuomo, Jenome J., Westwood, William D. |
---|---|
التنسيق: | كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
Noyes Publications
2011
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/25172 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
مواد مشابهة
-
Dry Etching Technology for Semiconductors
بواسطة: Nojiri, Kazuo
منشور في: (2016) -
Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing :
بواسطة: Mattox, D. M.
منشور في: (1998) - Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films /
-
Handbook of thin-film deposition processes and techniques :
منشور في: (2002) -
Analysis of solution-deposited alkali ions by cluster surface collisions /
بواسطة: Eusepi, F.