Handbook of Plasma Processing Technology - Fundamentals, Etching, Deposition, and Surface Interactions
This book provides a perspective look at a range of thin film plasma processing technologies.
সংরক্ষণ করুন:
প্রধান লেখক: | Rossnagel, Stephen M., Cuomo, Jenome J., Westwood, William D. |
---|---|
বিন্যাস: | গ্রন্থ |
ভাষা: | English |
প্রকাশিত: |
Noyes Publications
2011
|
বিষয়গুলি: | |
অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/25172 |
ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
অনুরূপ উপাদানগুলি
-
Dry Etching Technology for Semiconductors
অনুযায়ী: Nojiri, Kazuo
প্রকাশিত: (2016) -
Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing :
অনুযায়ী: Mattox, D. M.
প্রকাশিত: (1998) - Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films /
-
Handbook of thin-film deposition processes and techniques :
প্রকাশিত: (2002) -
Analysis of solution-deposited alkali ions by cluster surface collisions /
অনুযায়ী: Eusepi, F.