Handbook of Plasma Processing Technology - Fundamentals, Etching, Deposition, and Surface Interactions
This book provides a perspective look at a range of thin film plasma processing technologies.
שמור ב:
Những tác giả chính: | Rossnagel, Stephen M., Cuomo, Jenome J., Westwood, William D. |
---|---|
פורמט: | ספר |
שפה: | English |
יצא לאור: |
Noyes Publications
2011
|
נושאים: | |
גישה מקוונת: | https://scholar.dlu.edu.vn/thuvienso/handle/DLU123456789/25172 |
תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
פריטים דומים
-
Dry Etching Technology for Semiconductors
מאת: Nojiri, Kazuo
יצא לאור: (2016) -
Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing :
מאת: Mattox, D. M.
יצא לאור: (1998) - Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films /
-
Handbook of thin-film deposition processes and techniques :
יצא לאור: (2002) -
Analysis of solution-deposited alkali ions by cluster surface collisions /
מאת: Eusepi, F.