Apparent decreases in colloid deposition rate coefficients with distance of transport under unfavorable deposition conditions : A general phenomenon /

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autor principal: Li, Xiqing.
Altres autors: Johnson, William P., Scheibe, Timothy D.
Format: Article
Idioma:English
Matèries:
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt