Apparent decreases in colloid deposition rate coefficients with distance of transport under unfavorable deposition conditions : A general phenomenon /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Li, Xiqing.
Další autoři: Johnson, William P., Scheibe, Timothy D.
Médium: Článek
Jazyk:English
Témata:
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt