Apparent decreases in colloid deposition rate coefficients with distance of transport under unfavorable deposition conditions : A general phenomenon /

Gardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor Principal: Li, Xiqing.
Outros autores: Johnson, William P., Scheibe, Timothy D.
Formato: Artigo
Idioma:English
Những chủ đề:
Các nhãn: Engadir etiqueta
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt