Apparent decreases in colloid deposition rate coefficients with distance of transport under unfavorable deposition conditions : A general phenomenon /

Spremljeno u:
Bibliografski detalji
Glavni autor: Li, Xiqing.
Daljnji autori: Johnson, William P., Scheibe, Timothy D.
Format: Članak
Jezik:English
Teme:
Oznake: Dodaj oznaku
Bez oznaka, Budi prvi tko označuje ovaj zapis!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt