Eksport zakończony — 

Apparent decreases in colloid deposition rate coefficients with distance of transport under unfavorable deposition conditions : A general phenomenon /

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
1. autor: Li, Xiqing.
Kolejni autorzy: Johnson, William P., Scheibe, Timothy D.
Format: Artykuł
Język:English
Hasła przedmiotowe:
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt