Apparent decreases in colloid deposition rate coefficients with distance of transport under unfavorable deposition conditions : A general phenomenon /

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Li, Xiqing.
Tác giả khác: Johnson, William P., Scheibe, Timothy D.
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:English
Những chủ đề:
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
LEADER 01010nam a2200301 4500
001 DLU090095063
005 ##20091201
040 # # |a DLU  |b eng 
041 # # |a eng 
044 # # |a us 
100 # # |a Li, Xiqing. 
245 # # |a Apparent decreases in colloid deposition rate coefficients with distance of transport under unfavorable deposition conditions : A general phenomenon /  |c Xiqing Li, Timothy D. Scheibe, William P. Johnson. 
653 # # |a Aqueous solutions 
653 # # |a Colloidal materials 
653 # # |a Digital simulation 
653 # # |a Mass balance 
700 # # |a Johnson, William P. 
700 # # |a Scheibe, Timothy D. 
773 # # |t Environmental Science & Technology  |g Vol. 38, no. 21 (November 2004), p. 5616-5625 
920 # # |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt 
994 # # |a DLU 
900 # # |a True 
911 # # |a Trương Bảo Trâm Anh 
925 # # |a G 
926 # # |a A 
927 # # |a BB 
980 # # |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt