Effects of High Temperatures on Cell Reading, Programming, and Erasing of Schottky Barrier Charge-Trapping Memories
This paper examines the temperature effect of Schottky barrier source/drain charge-trapping memories. The current-voltage curves and programming/erasing characteristics are experimentally investigated at room temperature and higher 85 °C and 125 °C. 2-D device simulations were performed to elucidate...
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Jr-Jie Tsai, Wen-Fa Wu, Yu-Hsuan Chen, Hung-Jin Teng, Nguyễn, Đăng Chiến, Chun-Hsing Shih |
---|---|
Định dạng: | Journal article |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
2023
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/2073 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Transverse scaling of Schottky barrier charge-trapping cells for energy-efficient applications
Bỡi: Hung-Jin Teng, et al.
Được phát hành: (2021) -
Schottky barrier silicon nanowire SONOS memory with ultralow programming and erasing voltages
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
A source-side injection lucky electron model for Schottky barrier metal-oxide-semiconductor devices
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Modified trench MOS barrier schottky (TMBS) rectifier /
Bỡi: Moon, Jin-Woo. -
Characteristics of Ni/SiC schottky diodes grown by ICP-CVD /
Bỡi: Gil, Tae-Hyun.