Increasing drain voltage of low-bandgap tunnel field-effect transistors by drain engineering
Using low-bandgap semiconductors has been definitively designated as a key technique for boosting on-current of tunnel field-effect transistors (TFETs). Based on two-dimensional simulations, this study shows an upper limit of applied drain voltage and then investigates a method of drain design to al...
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | , , , |
---|---|
Định dạng: | Conference paper |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
IEEE Publishing
2024
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3311 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|