Relationship between secondary electrom emissions and film thickness of hydrogenated amorphous silicon /

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Kolejni autorzy: Chu, Byung-Yoon., Han, Byoung-Sung., Ko, Seok-Cheol., Yang, Sung-Chae.
Format: Artykuł
Język:English
Hasła przedmiotowe:
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt