Nanoimprint lithography materials development for semiconductor device fabrication /

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả khác: Costner, Elizabeth A., Jen, Wei-Lun., Lin, Michael W., Willson, C. Grant.
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:English
Những chủ đề:
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
LEADER 00953nam a2200313 4500
001 DLU090097895
005 ##20091201
040 # # |a DLU  |b eng 
041 # # |a eng 
044 # # |a us 
245 # # |a Nanoimprint lithography materials development for semiconductor device fabrication /  |c Elizabeth A. Costner ... [et al.].  
653 # # |a Dual damascene 
653 # # |a Imprint template 
653 # # |a Nanofabrication 
653 # # |a Next-generation lithography 
700 # # |a Costner, Elizabeth A.  
700 # # |a Jen, Wei-Lun. 
700 # # |a Lin, Michael W. 
700 # # |a Willson, C. Grant. 
773 # # |t Annual Review of Materials Research  |g Vol. 39 (2009), p. 155-180 
920 # # |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt 
994 # # |a DLU 
900 # # |a True 
911 # # |a Trương Bảo Trâm Anh 
925 # # |a G 
926 # # |a A 
927 # # |a BB 
980 # # |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt