Nanoimprint lithography materials development for semiconductor device fabrication /

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Dettagli Bibliografici
Altri autori:	Costner, Elizabeth A., Jen, Wei-Lun., Lin, Michael W., Willson, C. Grant.
Natura:	Articolo
Lingua:	English
Soggetti:	Dual damascene Imprint template Nanofabrication Next-generation lithography
Tags:	Aggiungi Tag Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne! !

Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

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