Impact of edge encroachment on programming and erasing gate current in NAND-type Flash memory
The edge encroachment of tunnel oxide is experimentally found to degrade the Fowler–Nordheim (FN) tunneling gate current of nand-type Flash cells. This work elucidates the impact of edge encroachment on FN tunneling current for use in programming and erasing operations. The fringing field effect and...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , , , , , , , , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Journal article |
| Ngôn ngữ: | English |
| Được phát hành: |
IEEE Publishing
2024
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3300 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|