Impact of edge encroachment on programming and erasing gate current in NAND-type Flash memory
The edge encroachment of tunnel oxide is experimentally found to degrade the Fowler–Nordheim (FN) tunneling gate current of nand-type Flash cells. This work elucidates the impact of edge encroachment on FN tunneling current for use in programming and erasing operations. The fringing field effect and...
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Ji-Ting Liang, Chun-Hsing Shih, Wei Chang, Yan-Xiang Luo, Ming-Kun Huang, Nguyễn, Đăng Chiến, Wen-Fa Wu, Sau-Mou Wu, Chenhsin Lien, Riichiro Shirota, Chiu-Tsung Huang, Su Lu, Alex Wang |
---|---|
Định dạng: | Journal article |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
IEEE Publishing
2024
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3300 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Different roles and designs of hetero-gate dielectric in single- and double-gate tunnel field-effect transistors
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2023) -
Device physics and design of hetero-gate dielectric tunnel field-effect transistors with different low/high-k EOT ratios
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Semiconductor-thickness-dependent design of hetero-gate dielectric in double-gate TFETs
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2024) -
Influence of hetero-gate dielectrics on short-channel effects in scaled tunnel field-effect transistors
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2024) -
Re-evaluating the volume effect in double-gate tunnel field effect transistors
Bỡi: Bui Huu Thai, et al.
Được phát hành: (2024)