Dopant-segregated metal source tunnel field-effect transistors with Schottky barrier and band-to-band tunneling

Metallic junction engineering and tunnel field-effect architecture are the two major techniques to resolve the power dissipation issue of future transistor technologies. This work explores the on-off switching of metal source tunnel field-effect transistors. Two prime factors, source workfunction an...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Chun-Hsing Shih, Ting-Shiuan Kang, Yu-Hsuan Chen, Hung-Jin Teng, Nguyễn, Đăng Chiến
Định dạng: Conference paper
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: IEEE Publishing 2024
Truy cập trực tuyến:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3315
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
Miêu tả
Tóm tắt:Metallic junction engineering and tunnel field-effect architecture are the two major techniques to resolve the power dissipation issue of future transistor technologies. This work explores the on-off switching of metal source tunnel field-effect transistors. Two prime factors, source workfunction and dopants segregation, are utilized to optimize the subthreshold swing and on-current for serving as ideal energy-efficient devices.