MOCVD of gallium nitride nanostructures using (N3)2Ga&(CH2)3NR2;, R= Me, Et, as a single molecule precursor : Morphology control and materials characterization /
Bewaard in:
| Andere auteurs: | , , , , , , |
|---|---|
| Formaat: | Artikel |
| Taal: | English |
| Onderwerpen: | |
| Tags: |
Voeg label toe
Geen labels, Wees de eerste die dit record labelt!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|