MOCVD of gallium nitride nanostructures using (N3)2Ga&(CH2)3NR2;, R= Me, Et, as a single molecule precursor : Morphology control and materials characterization /

Wedi'i Gadw mewn:
Manylion Llyfryddiaeth
Awduron Eraill: Birkner, Alexander., Devi, Anjana., Fischer, Roland A., Hambrock, Julia., Khanderi, Jayaprakash., Parala, Harish., Wohlfart, Andreas.
Fformat: Erthygl
Iaith:English
Pynciau:
Tagiau: Ychwanegu Tag
Dim Tagiau, Byddwch y cyntaf i dagio'r cofnod hwn!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
Disgrifiad
Mae'n ddrwg gennym, ni ellir dod o hyd i unrhyw awgrymiadau