MOCVD of gallium nitride nanostructures using (N3)2Ga&(CH2)3NR2;, R= Me, Et, as a single molecule precursor : Morphology control and materials characterization /
Gorde:
| Beste egile batzuk: | , , , , , , |
|---|---|
| Formatua: | Artikulua |
| Hizkuntza: | English |
| Gaiak: | |
| Etiketak: |
Etiketa erantsi
Etiketarik gabe, Izan zaitez lehena erregistro honi etiketa jartzen!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|