Porous pSiCOH ultralow-k dielectrics for chip interconnects prepared by PECVD /
Đã lưu trong:
Tác giả chính: | Grill, Alfred. |
---|---|
Định dạng: | Bài viết |
Ngôn ngữ: | English |
Những chủ đề: | |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Dependence of ozone generation in a micro dielectric barrier discharge on dielectric material and micro gap length /
Bỡi: Sakoda, Tatsuya. -
Device physics and design of hetero-gate dielectric tunnel field-effect transistors with different low/high-k EOT ratios
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Application of dielectric spectroscopy measurements for estimating moisture content in power transformers /
Bỡi: Ekanayake, Chandima. -
Preventing biomolecular adsorption in electrowetting-based biofluidic chips /
Bỡi: Yoon, Jeong-Yeol. -
Dùng phần mềm Matlab tính hệ số phản xạ của màng điện môi đa lớp :
Bỡi: Khổng, Như Phương
Được phát hành: (2013)