Porous pSiCOH ultralow-k dielectrics for chip interconnects prepared by PECVD /
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | Grill, Alfred. |
|---|---|
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | English |
| الموضوعات: | |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
مواد مشابهة
-
Dependence of ozone generation in a micro dielectric barrier discharge on dielectric material and micro gap length /
بواسطة: Sakoda, Tatsuya. -
Device physics and design of hetero-gate dielectric tunnel field-effect transistors with different low/high-k EOT ratios
بواسطة: Chun-Hsing Shih, وآخرون
منشور في: (2024) -
Application of dielectric spectroscopy measurements for estimating moisture content in power transformers /
بواسطة: Ekanayake, Chandima. -
Different roles and designs of hetero-gate dielectric in single- and double-gate tunnel field-effect transistors
بواسطة: Nguyễn, Đăng Chiến, وآخرون
منشور في: (2023) -
Preventing biomolecular adsorption in electrowetting-based biofluidic chips /
بواسطة: Yoon, Jeong-Yeol.