Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả khác: Chang, Pei-Ju., Chang, Yu-Hsu., Chiu, Hsin-Tien., Wu, Jin-Bao.
Định dạng: Bài viết
Ngôn ngữ:English
Những chủ đề:
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
LEADER 00998nam a2200325 4500
001 DLU090095300
005 ##20091201
040 # # |a DLU  |b eng 
041 # # |a eng 
044 # # |a us 
245 # # |a Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /  |c Yu-Hsu Chang ... [et al.]. 
653 # # |a Inorganic compounds 
653 # # |a Reaction mechanism 
653 # # |a Tantalum complexes 
653 # # |a Thin films 
653 # # |a Transition element compounds 
700 # # |a Chang, Pei-Ju. 
700 # # |a Chang, Yu-Hsu. 
700 # # |a Chiu, Hsin-Tien.  
700 # # |a Wu, Jin-Bao. 
773 # # |t Journal of Materials Chemistry  |g Vol. 13, no. 2 (2003), p. 365-369 
920 # # |a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt 
994 # # |a DLU 
900 # # |a True 
911 # # |a Trương Bảo Trâm Anh 
925 # # |a G 
926 # # |a A 
927 # # |a BB 
980 # # |a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt