Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /

Spremljeno u:
Bibliografski detalji
Daljnji autori: Chang, Pei-Ju., Chang, Yu-Hsu., Chiu, Hsin-Tien., Wu, Jin-Bao.
Format: Članak
Jezik:English
Teme:
Oznake: Dodaj oznaku
Bez oznaka, Budi prvi tko označuje ovaj zapis!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt