Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /

Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CETa(CH2CMe3)3(E= CH, N) /

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
מחברים אחרים: Chang, Pei-Ju., Chang, Yu-Hsu., Chiu, Hsin-Tien., Wu, Jin-Bao.
פורמט: Bài viết
שפה:English
נושאים:
Inorganic compounds
Reaction mechanism
Tantalum complexes
Thin films
Transition element compounds
תגים: הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

פרטי מלאי ספרים מ

פריטים דומים