Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films /

সংরক্ষণ করুন:

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
অন্যান্য লেখক:	Aoki, T., Baszczyk, I., Hatanaka, Y., Klemberg-Sapieha, J. E., Tracz, A., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Wrobel, A. M.
বিন্যাস:	প্রবন্ধ
ভাষা:	English
বিষয়গুলি:	Chemical reactivity Inorganic compounds Kinetics Nitrides Plasma chemistry Reaction mechanism Thin films
ট্যাগগুলো:	ট্যাগ যুক্ত করুন কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!

Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

বিবরন
বর্ণনা উপলবদ্ধ নয়।

অনুরূপ উপাদানগুলি