Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films /

Sparad:

Bibliografiska uppgifter
Övriga upphovsmän:	Aoki, T., Baszczyk, I., Hatanaka, Y., Klemberg-Sapieha, J. E., Tracz, A., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Wrobel, A. M.
Materialtyp:	Artikel
Språk:	English
Ämnen:	Chemical reactivity Inorganic compounds Kinetics Nitrides Plasma chemistry Reaction mechanism Thin films
Taggar:	Lägg till en tagg Inga taggar, Lägg till första taggen!

Thư viện lưu trữ:	Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

Liknande verk