|
|
|
|
| LEADER |
01253nam a2200385 4500 |
| 001 |
DLU090095369 |
| 005 |
##20091201 |
| 040 |
# |
# |
|a DLU
|b eng
|
| 041 |
# |
# |
|a eng
|
| 044 |
# |
# |
|a us
|
| 245 |
# |
# |
|a Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films /
|c A. M. Wrobel ... [et al.].
|
| 653 |
# |
# |
|a Chemical reactivity
|
| 653 |
# |
# |
|a Inorganic compounds
|
| 653 |
# |
# |
|a Kinetics
|
| 653 |
# |
# |
|a Nitrides
|
| 653 |
# |
# |
|a Plasma chemistry
|
| 653 |
# |
# |
|a Reaction mechanism
|
| 653 |
# |
# |
|a Thin films
|
| 700 |
# |
# |
|a Aoki, T.
|
| 700 |
# |
# |
|a Baszczyk, I.
|
| 700 |
# |
# |
|a Hatanaka, Y.
|
| 700 |
# |
# |
|a Klemberg-Sapieha, J. E.
|
| 700 |
# |
# |
|a Tracz, A.
|
| 700 |
# |
# |
|a Walkiewicz-Pietrzykowska, A.
|
| 700 |
# |
# |
|a Wrobel, A. M.
|
| 773 |
# |
# |
|t Journal of Materials Chemistry
|g Vol. 13, no. 4 (2003), p. 731-737
|
| 920 |
# |
# |
|a Phòng Tạp chí -- Trung tâm Thông tin - Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
|
| 994 |
# |
# |
|a DLU
|
| 900 |
# |
# |
|a True
|
| 911 |
# |
# |
|a Trương Bảo Trâm Anh
|
| 925 |
# |
# |
|a G
|
| 926 |
# |
# |
|a A
|
| 927 |
# |
# |
|a BB
|
| 980 |
# |
# |
|a Thư viện Trường Đại học Đà Lạt
|
