Fringing field and short channel effects in thin-body SOI MOSFETs with shallow source/drain
This work explores numerically the short-channel effects in thin-body SOI MOSFETs with shallow source/drain architecture, where the junction depths are less than the associated silicon body thicknesses. Unique fringing field and short-channel behavior are observed in the unconventional SOI devices....
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Jui-Kai Hsia, Chun-Hsing Shih, Ting-Shiuan Kang, Nguyễn, Đăng Chiến, Nguyen Van Kien |
---|---|
Định dạng: | Conference paper |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
IEEE Publishing
2024
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3307 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
Những quyển sách tương tự
-
On-current limitation of high-k gate insulator MOSFETs
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Increasing drain voltage of low-bandgap tunnel field-effect transistors by drain engineering
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2024) -
Wage drift, fringe benefits and manpower distribution
Bỡi: Robinson, Derek
Được phát hành: (1968) -
Extreme crack shapes in a shallow shell /
Bỡi: Khludnev, A. M. - Separation and quantification of parasitic resistance in nano-scale silicon MOSFET /