Strain : A solution for higher carrier mobility in nanoscale MOSFETs /
Salvato in:
| Altri autori: | Aghoram, Umamaheswari., Chu, Min., Sun, Yongke., Thompson, Scott E. |
|---|---|
| Natura: | Articolo |
| Lingua: | English |
| Soggetti: | |
| Tags: |
Aggiungi Tag
Nessun Tag, puoi essere il primo ad aggiungerne! !
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
Documenti analoghi
-
Thin-body effects in double-gate tunnel field-effect transistors
di: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Pubblicazione: (2024) -
Stress trong đời sống của con người và vật nuôi
di: Phạm Khắc Hiếu
Pubblicazione: (1998) -
Nghiên cứu tối ưu hóa các tham số của thân linh kiện nâng cao đặc tính điện của các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm (TFET)
di: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Pubblicazione: (2025) -
Influence of hetero-gate dielectrics on short-channel effects in scaled tunnel field-effect transistors
di: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Pubblicazione: (2024) -
Oxide thickness-dependent effects of source doping profile on the performance of single- and double-gate tunnel field-effect transistors
di: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Pubblicazione: (2023)