Strain : A solution for higher carrier mobility in nanoscale MOSFETs /
Guardat en:
| Altres autors: | Aghoram, Umamaheswari., Chu, Min., Sun, Yongke., Thompson, Scott E. |
|---|---|
| Format: | Article |
| Idioma: | English |
| Matèries: | |
| Etiquetes: |
Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!
|
| Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
|---|
Ítems similars
-
Thin-body effects in double-gate tunnel field-effect transistors
per: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Publicat: (2024) -
Stress trong đời sống của con người và vật nuôi
per: Phạm Khắc Hiếu
Publicat: (1998) -
Nghiên cứu tối ưu hóa các tham số của thân linh kiện nâng cao đặc tính điện của các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm (TFET)
per: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Publicat: (2025) -
Influence of hetero-gate dielectrics on short-channel effects in scaled tunnel field-effect transistors
per: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Publicat: (2024) -
Oxide thickness-dependent effects of source doping profile on the performance of single- and double-gate tunnel field-effect transistors
per: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Publicat: (2023)