Threshold voltage of Ge channel MOSFETs with high-k gate insulator
As the MOSFET devices scale into nanoscale regime, it is increasingly difficult to enhance the performance of silicon CMOS devices through traditional scaling approaches. Ge channel MOSFETs with high -k gate insulator become one of most attracting candidates for the use in fut...
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Chun-Hsing Shih, Jhong-Sheng Wang, Nguyễn, Đăng Chiến, Sau-Mou Wu |
---|---|
Định dạng: | Conference paper |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
Sweden
2024
|
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3303 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
On-current limitation of high-k gate insulator MOSFETs
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Ambipolar conduction in recessed channel Schottky barrier MOSFETs
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Voltage-gated Sodium Channels: Structure, Function and Channelopathies
Bỡi: Chahine, Mohamed
Được phát hành: (2020) -
Fringing field and short channel effects in thin-body SOI MOSFETs with shallow source/drain
Bỡi: Jui-Kai Hsia, et al.
Được phát hành: (2024) -
Short-channel effects in tunnel field-effect transistors with different configurations of abrupt and graded Si/SiGe heterojunctions
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2023)