Effects of source doping profile on device characteristics of lateral and vertical tunnel field-effect transistors

The source doping engineering, the low bandgap material and the vertical tunneling structure have recently been considered as most effective techniques to resolve the on-current issue in tunnel field-effect transistors (TFETs). In this paper, the effects of source doping profile, including the conce...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Luu The Vinh, Nguyễn, Đăng Chiến
Định dạng: Journal article
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: 2023
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/2083
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

Những quyển sách tương tự