Design optimization of extremely short-channel graded Si/SiGe heterojunction tunnel field-effect transistors for low power applications
This study investigates, by a two-dimensional simulation, the design optimization of a proposed 8 nm tunnel field-effect transistor (TFET) for low standby power (LSTP) applications utilizing graded Si/SiGe heterojunction with device parameters based on the ITRS specifications. The source Ge mole fra...
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Nguyễn, Đăng Chiến, Luu The Vinh |
---|---|
Định dạng: | Journal article |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
Publishing House for Science and Technology, Vietnam Academy of Science and Technology
2024
|
Những chủ đề: | |
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3294 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Different scalabilities of N- and P-Type tunnel field-effect transistors with Si/SiGe heterojunctions
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2024) -
Sub-10nm tunnel field-effect transistor with graded Si/Ge heterojunction
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Short-channel effects in tunnel field-effect transistors with different configurations of abrupt and graded Si/SiGe heterojunctions
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2023) -
Short-channel effect and device design of extremely scaled tunnel field-effect transistors
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2023) -
Influence of hetero-gate dielectrics on short-channel effects in scaled tunnel field-effect transistors
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2024)