Oxide thickness-dependent effects of source doping profile on the performance of single- and double-gate tunnel field-effect transistors

Operated by the band-to-band tunneling at the source-channel junction, the source engineering has been considered as an efficient approach to enhance the performance of tunnel field-effect transistors (TFETs). In this paper, we report a new feature that the effects of source doping profile on the pe...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính: Nguyễn, Đăng Chiến, Chun-Hsing Shih
Định dạng: Journal article
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: 2023
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/2077
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

Những quyển sách tương tự