Device physics and design of hetero-gate dielectric tunnel field-effect transistors with different low/high-k EOT ratios

The hetero-gate dielectric (HGD) structure was recently experimentally demonstrated to enhance the electrical performance of tunnel field-effect transistors (TFETs). This study examined the mechanisms underlying the HGD structure functioning and investigated the design of the structure to enhance th...

Descrición completa

Gardado en:
Detalles Bibliográficos
Những tác giả chính: Chun-Hsing Shih, Nguyễn, Đăng Chiến, Trần, Hữu Duy, Phan, Văn Chuân
Formato: Journal article
Idioma:English
Publicado: Springer Nature 2024
Những chủ đề:
Acceso en liña:https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3290
Các nhãn: Engadir etiqueta
Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!
Thư viện lưu trữ: Thư viện Trường Đại học Đà Lạt

Títulos similares