Effects of Edge Thinning on Fowler-Nordheim Tunneling Current of NAND-Type Flash Memory Cells
The edge thinning of tunnel oxide is numerically found to increase the Fowler-Nordheim (FN) tunneling gate current in NAND-type Flash cells during programming and erasing operations. This work explores the effect of edge thinning profile in tunnel-oxide on FN tunneling current, and examines the impa...
Đã lưu trong:
Những tác giả chính: | Ji-Ting Liang, Chun-Hsing Shih, Yan-Xiang Luo, Ming-Kun Huang, Nguyễn, Đăng Chiến, Ruei-Kai Shia, Sau-Mou Wu, Chenhsin Lien, Wen-Fa Wu |
---|---|
Định dạng: | Conference paper |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
Taiwan (China)
2024
|
Truy cập trực tuyến: | https://scholar.dlu.edu.vn/handle/123456789/3305 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Thư viện lưu trữ: | Thư viện Trường Đại học Đà Lạt |
---|
Những quyển sách tương tự
-
Impact of edge encroachment on programming and erasing gate current in NAND-type Flash memory
Bỡi: Ji-Ting Liang, et al.
Được phát hành: (2024) -
Schottky barrier silicon nanowire SONOS memory with ultralow programming and erasing voltages
Bỡi: Chun-Hsing Shih, et al.
Được phát hành: (2024) -
Pocket Fowler's modern English usage
Bỡi: Allen, Robert
Được phát hành: (2008) -
ENGINEERING MECHANICS DYNAMICS( Bedford, fowler) /
Bỡi: Schiavone Peter
Được phát hành: (2005) -
Proper Determination of Tunnel Model Parameters for Indirect Band-to-Band Tunneling in Compressively Strained Si1-xGex TFETs
Bỡi: Nguyễn, Đăng Chiến, et al.
Được phát hành: (2024)